Toshiba готовится к 25-нм производству памяти

Компания Toshiba планирует потратить 15 миллиардов йен (около 160 млн. долларов) на развитие производственной линии для новых более совершенных чипов флеш-памяти. Для этого японцы уже заключили с голландской компанией ASML соглашение по вопросу поставок соответствующего оборудования.

В настоящее время Toshiba выпускает память, изготовленную по 43-нм и 32-нм технологическому процессу. Инженеры намерены перейти сразу к 25-нм процессу, а в будущем и к более низкому. Меньшая технологическая норма позволяет не только уменьшить габариты микросхем и конечных устройств, но и снизить энергопотребление.

Toshiba начнет производство 20-25-нанометровой памяти уже в конце 2010 года. В 2012 году планируется переход на более емкие технологические нормы. Надо сказать, что некоторые эксперты скептически относятся к резкому переходу к 20-нм процессу. По их мнению, Toshiba должна преодолеть планку 29 нм.

По материалам Engadget